第157章 挖asml的根

整理ppt文档。

“杜恪波与duv方程，让uv光源可以进行渐变切换，理论上，通过这种技术手段，我们可以实现对euv（极紫外光）的干涉，从而获得波长更短的光源，提升芯片的纳米制程。”

选了一副euv光刻机作为配图，杜恪继续整理文档：“10年代我们推测，euv技术成熟后，3nm制程将成为主流光刻工艺，2nm制程也将随之铺展而来。但是结果并非尽如人意，3nm制程不够稳定，2nm制程尚未成效，究其原因是euv收集难度巨大，转化效率很低，需要的光学镜片精度也难以跟上……”

“所以。”

“我认为杜恪波将会在这方面提供帮助，通过波的干涉效果，约束材料本身对euv的吸收，从而让光刻机获得更稳定的euv光源，减少对光学镜片的精度依赖，并且不必借助lpp即可生产光源，有效降低光刻机的散热需求。”

这套改进方案说下去，杜泠然发现。

自己这不就是在挖asml的根吗，风车国的asml是光刻机领域巨头，靠的就是euv光源稳定生产3nm制程的光刻机。同时搭载了米利坚的光源技术，也就是lpp（激光等离子体光源）。一旦杜恪预言的杜恪波与euv光源实现，那么就能完美避开asml和米利坚的技术。

“唔，我这ppt方案交流出去，asml的人估计得跳起来骂娘吧”